佑的大脑中清晰可见。
“黄思白跟我讲的这些技术，确实都没有问题。”
通过严谨的模拟，徐佑确定了黄思白这些技术的真实性。
为了取得徐佑的信任，黄思白并没有对徐佑有任何的隐瞒，把自己了解到的东西，一五一十的都说给了徐佑。
从黄思白的讲述中，徐佑能够听出，这些技术并不是真正由黄思白自己研发出来的，更像是黄思白从某些渠道中得到的。
但对于徐佑来说，这些信息已经足够了。
在深度思考中，徐佑可以根据黄思白提供的信息，反推出更多有用的信息。
经过不断的模拟、计算、推演后，徐佑距离整套完善的euv光刻机技术，已经越来越近了。
包括硅片的表面清洗烘干、涂底、旋转光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、检测等等多道工序，不断在徐佑的脑海中重演着。
不知经历了多少次的推演，徐佑还是没有根据自己大脑中模拟的euv光刻机，成功生产出合格的高精度芯片。
“不行……euv光源的技术，还没有很好的解决。”
在euv光刻机中，euv光源无疑是最核心的设备。
想要让光刻机高效的工作，需要有足够亮的euv光源才行。
在euv光源方面，黄思白提供了一些技术，但并没有彻底的解决问题。
“等一下……极紫外辐射的光谱，似乎还有继续优化的空间！”
这时，徐佑突然注意到。
在正常的激光最佳聚焦位置下，入射激光能量和等离子体之间缺乏有效的耦合。
而其中的原因，是因为在最佳聚焦位置处，聚焦光斑尺寸较小，激光聚焦锥角也较小，等离子体吸收的能量会局限在中轴附近，影响等离子体对激光能量的吸收。
换句话说，所谓的“激光最佳聚焦位置”，很可能并不是euv光谱强度最强的位置。
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